半导体设备行业系列报告之三:清洗篇,清洗需求提高,关注设备进口替代
敬请阅读末页的重要说明 证券研究报告 | 行业联合报告 工业 | 机械 推荐(维持) 清洗需求提高,关注设备进口替代 2020 年03 月05 日 半导体设备系列报告之三——清洗篇 上证指数 3012 行业规模 占比% 股票家数(只) 367 9.7 总市值(亿元) 30966 5.1 流通市值(亿元) 23208 4.8 行业指数 % 1m 6m 12m 绝对表现 0.8 8.8 15.1 相对表现 3.3 1.9 -2.7 资料来源:贝格数据、招商证券 相关报告 1、《基金 19 年报持仓分析— 机械持仓回升,前十大重仓股持仓占比提升》2020-02-02 2、《疫情对机械行业影响点评—冲击是短暂的》2020-02-02 3、《油气装备行业点评—油气勘采全面 开 放 , 有 望 提 升 板 块 估 值 》2020-01-09 新冠疫情对于社会正常生产、生活形成了较大影响,然而半导体集成电路制造行业由于其生产流程的特殊性,受到的影响相对较小(不考虑物流运输、封测等环节)。春节期间,位于武汉的长江存储、武汉新芯仍在正常运转,而这主要是由于集成电路制程的日益精细、复杂化,对厂区的洁净度、隔离一贯的高要求。同时,先进制程的发展也对生产过程中的清洗环节提出了更高的要求。本篇报告主要介绍集成电路清洗工艺以及相关设备,并关注由存储芯片等下游市场回暖带来的清洗设备国产化机会。重点推荐关注清洗设备进口替代领先企业——至纯科技。 ❑ 存储器行业价格反弹,国产存储器厂商产能爬坡,行业有望进入景气周期。经过一年多的低迷后,NAND 和 Dram 价格均在 19 年年末止跌回升,全球行业景气度回暖有望重新带动资本开支。而国内的主流存储器厂商,2020 年也将迎来持续产能爬坡,有望进一步带动设备采购。 ❑ 半导体清洗制程工艺节点演变,清洗设备要求不断提升。清洗设备是贯穿半导体产业链的重要环节,避免杂质影响成品质量和下游产品性能,在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺中均为必要环节。随着集成电路制程工艺节点越来越先进,对清洗环节也提出了新要求,重要性日益凸显,清洗步骤约占整体步骤的 33%。 ❑ 国内清洗设备公司任重道远。根据我们测算,半导体清洗设备年市场空间 30亿美元以上,其中国内市场 15-20 亿美元。目前行业绝大部分份额被迪恩士、泛林等海外巨头垄断,但近年来国内的清洗设备企业发展也非常迅速,通过人才引进,设立海外子公司,加强研发等方式,龙头至纯科技、盛美等也逐渐进入了国内、国际一线半导体生产公司。随着国产半导体制造企业对于设备国产化要求的提升,我们认为清洗设备有可能成为最先大规模国产化的半导体生产设备品类。 ❑ 相关公司及投资建议。至纯科技自 2015 年进入半导体清洗设备领域以来,已经切入了中芯、万国、燕东、TI 等半导体领先企业,并与国产存储器核心企业保持了密切合作关系,预计 2020 年单片清洗设备将放量,给予重点推荐。 ❑ 风险提示:半导体资本开支、设备国产化不及预期,产品利润率下滑。 诸凯 zhukai@cmschina.com.cn S1090518070005 吴丹 wudan6@cmschina.com.cn S1090518090001 刘荣 S1090511040001 研究助理 时文博 陈铭 重点设备公司主要财务指标 股价 18EPS 19EPS 20EPS 19PE 20PE PB 评级 至纯科技 35.8 0.13 0.46 0.81 87 43 8.5 审慎推荐-A 长川科技 27.8 0.12 0.05 0.38 556 78 12 审慎推荐-A 华兴源创 48.3 0.61 0.68 0.84 72 57 11 暂无评级 晶盛机电 23.5 0.45 - - - - 8.4 电新覆盖 盛美 20.0 2.54 - - - - 4.3 美股 资料来源:公司数据、招商证券 -5051015202530Feb/19Jun/19Sep/19Jan/20(%)机械沪深300 行业研究 敬请阅读末页的重要说明 Page 2 正文目录 前言——存储器价格回升,资本开支有望回暖 ............................................................. 5 一、全球逐渐走出低谷,国内产能持续爬坡 ................................................................. 5 1、全球市场:2019 年市场同比下滑,年末逐渐走出低谷 ........................................... 5 2、国内市场:产能持续增长,将超韩国成为全球最大半导体市场 .............................. 7 二、摩尔定律下,制程工艺节点迅速演变 .................................................................... 9 三、半导体清洗——需求、难度不断增长 .................................................................. 10 1、半导体清洗——高质量半导体器件的保障 ............................................................. 11 2、技术路线——干法、湿法各有所长 ........................................................................ 12 3、技术路线——单晶圆清洗有望逐渐取代槽式清洗 .................................................. 14 四、半导体清洗设备市场及行业格局 .......................................................................... 16 1、清洗设备市场:呈寡头垄断格局,国内企业水平与国际仍有较大差距 ................. 16 2、市场空间,国产清洗设备厂商的机遇 .................................................................... 18 五、海外清洗设备龙头................................................................................................ 19 1、迪恩士(SCREEN)——行业霸主 ....................................................................... 19 2、东京电子(Tokyo Electron)——干法清洗领导者 .....................................
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