中报点评：业绩持续高速成长，逐步建立半导体设备平台

第 1 页 / 共 5 页 本报告版权属于中原证券股份有限公司 www.ccnew.com 请阅读最后一页各项声明 半导体 分析师：邹臣 登记编码：S0730523100001 zouchen@ccnew.com 021-50581991 业绩持续高速成长，逐步建立半导体设备平台 ——中微公司(688012)中报点评 证券研究报告-中报点评 买入(维持) 市场数据(2025-09-01) 收盘价(元) 223.20 一年内最高/最低(元) 256.57/115.31 沪深 300 指数 4,523.71 市净率(倍) 6.70 流通市值(亿元) 1,397.56 基础数据(2025-06-30) 每股净资产(元) 33.33 每股经营现金流(元) 0.32 毛利率(%) 39.86 净资产收益率_摊薄(%) 3.38 资产负债率(%) 26.64 总股本/流通股(万股) 62,614.53/62,614.53 B 股/H 股(万股) 0.00/0.00 个股相对沪深 300 指数表现 资料来源：中原证券研究所，聚源 相关报告 《中微公司(688012)季报点评：刻蚀设备销量持续高速增长，多款薄膜沉积设备获得重复性订单》 2025-04-28 联系人： 李智 电话： 0371-65585629 地址： 郑州郑东新区商务外环路10 号18 楼 地址： 上海浦东新区世纪大道1788 号T1 座22 楼 发布日期：2025 年 09 月 02 日 事件：近日公司发布 2025 年半年度报告，2025 年上半年公司实现营收 49.61 亿元，同比+43.88%；归母净利润 7.06 亿元，同比+36.62%；扣非归母净利润 5.39 亿元，同比+11.49%。2025 年第二季度单季度实现营收 27.87 亿元，同比+51.26%，环比+28.25%；归母净利润 3.93亿元，同比+46.82%，环比+25.47%；扣非归母净利润 2.40 亿元，同比+9.16%，环比-19.39%。 投资要点：  业绩持续高速成长，不断加大研发投入力度。2025 年上半年，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产，推动公司营收持续高速增长；25H1 刻蚀设备销售约 37.81 亿元，同比增长约 40.12%, LPCVD 设备销售约 1.99 亿元，同比增长约 608.19%。公司 25Q2 毛利率为 38.54%，同比增长 0.37%，环比下降 3.00%；25Q2 净利率为 13.56%，同比下降 0.95%，环比下降 0.62%。公司不断加大研发投入力度，25H1研发投入约 14.92 亿元，同比增长 53.70%，研发投入占公司营业收入比例约为 30.07%。  CCP 与 ICP 刻蚀设备不断扩大工艺覆盖度，装机量持续高速增长。公司的刻蚀产品已经对 28 纳米以上的绝大部分 CCP 刻蚀应用和 28 纳米及以下的大部分 CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。2025 年上半年，公司 CCP 刻蚀设备中双反应台机型 Primo D-RIE、Primo AD-RIE、 Primo AD-RIE-e 和单反应台机型 Primo HD-RIE 等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品 Primo HD-RIEe 和用于超高深宽比刻蚀工艺的 Primo UD-RIE 持续获得客户订单，其中 Primo HD-RIEe 在 2025 年上半年累计装机超过 120 个反应台，Primo UD-RIE 累计装机接近 200 个反应台；截至 2025 年上半年，CCP刻蚀设备累计装机量超过 4500 个反应台，同比增长超过 900 个反应台。公司的 ICP 刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3D NAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的 50 多个客户的生产线上大规模量产，并继续验证更多 ICP 刻蚀工艺；截至 2025 年上半年，ICP 刻蚀设备累计装机量超过 1200 个反应台。  多款薄膜沉积产品获得客户重复量产订单，持续推进新工艺设备开发。公司已开发出六款薄膜沉积产品并推向市场，其中钨系列薄膜沉积产品包括 CVD 钨设备、HAR 钨设备和 ALD 钨设备，可覆盖存-8%6%21%35%49%64%78%93%2024.092025.012025.052025.08中微公司沪深30011772 半导体 第 2 页 / 共 5 页 本报告版权属于中原证券股份有限公司 www.ccnew.com 请阅读最后一页各项声明 储器件所有钨应用，该系列设备均已通过关键存储客户端现场验证，满足先进存储应用中所有金属互联应用及三维存储器件字线应用各项性能指标，并获得客户重复量产订单；公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品包括 ALD 氮化钛、ALD 钛铝和 ALD 氮化钽产品，已完成多个先进逻辑客户设备验证，在满足先进逻辑客户性能需求的同时，设备的薄膜均一性、污染物控制和生产效率均达到世界先进水平，该系列设备已付运到先进逻辑客户端进行验证，核准推进顺利。公司在现有的金属 CVD 和 ALD 设备研发基础上，同步推进多款 CVD 和 ALD 设备开发，增加薄膜设备的覆盖率和市场占有率。  盈利预测与投资建议。刻蚀设备与薄膜沉积设备市场空间广阔，公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品升级快速迭代、刻蚀应用覆盖丰富等优势，CCP 与 ICP 刻蚀设备不断扩大工艺覆盖度，装机量持续高速增长，多款薄膜沉积产品获得客户重复量产订单，并持续推进新工艺设备开发，公司逐步建立半 导 体 设 备 平 台 ， 我 们 预 计 公 司25-27年 营 收 为120.43/155.23/198.09亿 元 ， 25-27年 归 母 净 利 润 为22.94/30.96/41.10 亿元，对应的 EPS 为 3.66/4.94/6.56 元，对应PE 为 60.93/45.14/34.00 倍，维持“买入”评级。 风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期风险，行业竞争加剧风险，新产品研发进展不及预期风险，国际贸易冲突加剧风险。 2023A 2024A 2025E 2026E 2027E 营业收入（百万元） 6,264 9,065 12,043 15,523 19,809 增长比率（%） 32.15 44.73 32.85 28.90 27.61 净利润（百万元） 1,786 1,616 2,294 3,096 4,110 增长比率（%） 52.67 -9.53 41.96 34.99 32.74 每股收益(元) 2.85 2.58 3.66 4.94 6.56 市盈率(倍) 78.25 86.50 60.93 45.14 34.00 资料来源：中原证券研究所，聚源 半导体 第 3 页 / 共 5 页 本报告版权属于中原证券股份有限公司 www.ccnew.com 请阅读最后一页各项声明 图 1：公司单季度营业