拓荆科技(688072)半导体薄膜沉积设备国产领军者，产品体系持续完善打开成长空间

拓荆科技（688072）：半导体薄膜沉积设备国产领军者，产品体系持续完善打开成长空间证券研究报告/公司深度研究报告【华西机械&电子团队】刘泽晶：S1120520020002请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明2024年3月1日评级：增持上次评级：首次覆盖目标价格：最新收盘价：190.38股票代码：68807252 周最高价/最低价：330.80/140.50总市值(亿)358.27自由流通市值(亿)195.47自由流通股数(百万)102.68证券研究报告1核心观点 本土半导体薄膜沉积设备龙头，业绩持续快速增长。公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头，产品覆盖PECVD、SACVD、ALD、HDPCVD等，成功供货中芯国际、华虹集团、长江存储等主流客户，业绩实现快速增长。1）收入端：2022年实现营收17.06亿元，2018-2022年CAGR高达122%。根据2023年业绩快报，2023年营收27.05亿元，同比+59%，延续高速增长。2）利润端：2022年归母净利润和扣非归母净利润分别达到3.69和1.78亿元，分别同比+438%和+317%，利润端正式进入高速增长阶段。根据2023年业绩快报，2023年公司归母净利润和扣非归母净利润分别为6.65亿元、3.13亿元，分别同比+80%、+76%，若剔除股份支付费用影响，则利润端表现更加出色。根据公司2023年业绩预增公告，截至2023年末，公司在手订单金额超过64亿元（不含Demo），在手订单饱满。随着在手订单陆续交付、确认收入，公司业绩端表现同样有望延续高速增长。作为半导体薄膜沉积设备龙头，公司承担较多前沿产品开发。根据公司公告，2023年公司相继收到三笔大额政府补助，合计金额高达4.20亿元，可以进一步验证，为公司长期成长性打下基础。 薄膜沉积设备是高价值量占比的天然大市场，公司产品竞争优势明显。荷兰出口管制影响下，中国大陆对于高端光刻机进口加速，2023年累计进口金额达到72.30亿美元，同比+184%，拉货势头明显，同时进口均价大幅提升。随着更高端光刻机陆续到位，将支撑国内晶圆厂后续大规模扩产。1）薄膜沉积在晶圆制造设备中价值量占比高达22%，其中PECVD和ALD在薄膜沉积设备中占比分别达到33%和11%。若仅考虑半导体PECVD和ALD两大类设备，我们预计2025年中国大陆市场规模分别可达194和65亿元，合计超过250亿元。2）全球半导体薄膜沉积设备仍由AMAT、LAM、TEL等海外龙头主导，公司在集成电路PECVD和SACVD领域先发优势明显，ALD同样是国内领先设备企业。往后来看，友商积极布局PECVD、ALD等薄膜沉积赛道，引发市场对于公司竞争格局的担忧。我们认为，半导体设备作为典型的技术密集型赛道，适合孕育大体量公司，龙头效应明显，同时先发优势至关重要。作为国内半导体薄膜沉积设备龙头，公司具备身位性领先优势，并积极进行高研发投入，不断夯实核心竞争力，巩固行业龙头地位，市场领先地位有望长期维持，将充分受益于本土晶圆厂扩产浪潮。 PECVD仍有较大成长空间，SACVD、ALD等市场加速开拓。公司在稳固PECVD市场竞争力的同时，SACVD&ALD等持续取得突破，成长空间不断打开。1）PECVD：公司在国内市占率依然较低，公司工艺覆盖面扩大&客户验证顺利推进，有望延续高速增长；2）SACVD&HDPCVD：适用于沟槽填充工艺，其中SACVD在先进制程下渗透率存在提升趋势，公司产品体系不断完善，有望进入加速放量阶段。此外，公司重点布局HDPCVD，持续完善产品矩阵，已持续获得客户订单，进一步打开成长空间；3）ALD：膜厚精准可控&台阶覆盖率极高，技术优势突出，公司率先实现PE-ALD产业化，Thermal-ALD持续获得原有客户及新客户订单，并出货至不同客户端产业化验证，验证进展顺利，并不断拓展薄膜种类及工艺应用，进一步夯实市场竞争力。 前瞻性布局混合键合设备，充分受益先进封装行业浪潮。AI需求持续提升背景下，先进封装有望加速渗透。从工艺端来看，传统封装键合仍以引线键合为主，先进封装背景下，为实现堆叠芯片间的高密度互联，键合逐步向混合键合方向发展。公司前瞻性布局应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备，主要包括晶圆对晶圆键合、芯片到晶圆键合两大类设备。根据公司2023年中报披露，晶圆对晶圆键合产品Dione 300实现首台产业化应用，并获得重复订单，芯片对晶圆键合表面预处理产品Pollux已出货至客户端进行产业化验证，验证进展顺利，有望充分受益于先进封装行业浪潮。 盈利预测：我们预计公司2023-2025年营业收入分别为27.05、40.40和55.45亿元，分别同比+59%、+49%和+37%；2023-2025年归母净利润分别为6.65、8.97、12.07亿元，分别同比+80%、+35%和+35%；2023-2025年EPS分别为3.53、4.77和6.41元，2024年2月28日收盘价190.38元对应PS分别为13、9、6倍，对应PE分别为54、40、30倍。考虑到公司在半导体薄膜沉积领域的市场竞争力，以及拓品类能力，成长性较为突出，首次覆盖，给予“增持”评级。 风险提示：晶圆厂资本开支不及预期、新品拓展不及预期、技术人员流失等。2核心观点资料来源：wind，华西证券研究所财务摘要2021A2022A2023E2024E2025E营业收入（百万元）7581,7062,7054,0405,545YoY（%）74.0%125.0%58.6%49.4%37.2%归母净利润（百万元）683696658971,207YoY（%）696.1%438.1%80.3%35.0%34.6%毛利率（%）44.0%49.3%49.8%49.7%49.5%每股收益（元）0.723.183.534.776.41ROE5.7%9.9%14.8%16.7%18.3%市盈率264.4259.8753.9139.9529.68盈利预测与估值3目录拓荆科技：本土薄膜沉积设备龙头，业绩持续快速增长一薄膜沉积设备是天然大市场，公司产品竞争优势明显二PECVD仍有较大成长空间，SACVD、ALD等市场加速开拓三四前瞻性布局混合键合设备，充分受益先进封装行业浪潮六风险提示五盈利预测与投资评级41.1 引领PECVD进口替代，产品供货半导体主流客户图：公司立足半导体薄膜沉积设备领域，产业化持续突破资料来源：公司公告，公司官网，华西证券研究所 拓荆科技成立于2010年，专业从事半导体薄膜沉积设备，引领进口替代浪潮。公司曾承担多项国家科技重大专项&省部级重大科研项目，曾三次荣获“中国半导体设备五强企业”，产品已适配国内最先进的28/14 nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线，尤其在PECVD和SACVD领域，公司是本土唯一实现产业化应用的供应商。在薄膜沉积设备基础上，公司还积极布局先进封装领域，成功研制应用于晶圆级三维集成领域的混合键合设备系列。51.1 引领PECVD进口替代，产品供货半导体主流客户图：公司股权构成（截止2023Q3末)资料来源：Wind，华西证券研究所 公司无实控人&控股股东