2022年报点评：订单大超市场预期，产品线不断丰富将充分受益进口替代

证券研究报告·公司点评报告·半导体 东吴证券研究所 1 / 5 请务必阅读正文之后的免责声明部分 拓荆科技-U（688072） 2022 年报点评：订单大超市场预期，产品线不断丰富将充分受益进口替代 2023 年 04 月 18 日 证券分析师 周尔双 执业证书：S0600515110002 021-60199784 zhouersh@dwzq.com.cn 证券分析师 黄瑞连 执业证书：S0600520080001 huangrl@dwzq.com.cn 证券分析师 马天翼 执业证书：S0600522090001 maty@dwzq.com.cn 股价走势 市场数据 收盘价(元) 448.00 一年最低/最高价 88.10/490.00 市净率(倍) 15.91 流通 A 股市值(百万元) 30,777.67 总市值(百万元) 56,662.50 基础数据 每股净资产(元,LF) 28.16 资产负债率(%,LF) 39.42 总股本(百万股) 126.48 流通 A 股(百万股) 68.70 相关研究 《拓荆科技-U(688072)：2022 年业绩快报点评：盈利水平大幅提升，业绩实现大幅增长》 2023-02-26 《拓荆科技-U(688072)：2022 年业绩预告点评：订单加速交付，业绩超市场预期》 2023-01-31 买入（维持） [Table_EPS] 盈利预测与估值 2022A 2023E 2024E 2025E 营业总收入（百万元） 1,706 3,167 4,482 5,866 同比 125% 86% 42% 31% 归属母公司净利润（百万元） 369 605 886 1,196 同比 438% 64% 46% 35% 每股收益-最新股本摊薄（元/股） 2.91 4.79 7.00 9.46 P/E（现价&最新股本摊薄） 153.76 93.62 63.96 47.36 [Table_Tag] 关键词：#进口替代 [Table_Summary] 事件：公司发布 2022 年年报。 ◼ 订单加速验收驱动营收端高速增长，2022 年新签/在手订单超预期 2022 年公司实现营业收入 17.06 亿元，同比+125%；其中 Q4 营业收入为 7.14 亿元，同比+85.92%，延续高速增长态势。分业务来看：1）PECVD：实现收入 15.63 亿元，同比+131.44%，占营收比重 91.65%，同比+2.54pct，仍是公司最大收入来源；2）ALD：实现收入 0.33 亿元，同比+13.85%，其中 PE-ALD 设备已实现产业化应用；3）SACVD： 实现收入 0.89 亿元 同比+117.39%，主要系 SACVD 列产品持续拓展应用领域，SATEOS、BPSG、SAF 薄膜工艺设备在芯片制造领域均取得客户验收。 截至 2022 年末，公司在手订单 46.02 亿元（不含 Demo 订单），2022年新签订单 43.62 亿元（不含 Demo 订单），同比+95.36%，大超市场预期，我们认为在手订单充足，将支撑 2023 年收入端延续高速增长。 ◼ 毛利水平提升&规模效应显现，盈利水平大幅提升 2022 年公司实现归母净利润 3.69 亿元，同比+438.09%，其中 Q4 为1.31 亿元，同比+1145%。2022 年公司扣非归母净利润为 1.78 亿元，同比增加 2.60 亿元，其中 Q4 为 0.66 亿元，同比增加 1.25 亿元。2022 年公司归母净利率和扣非归母净利率分别为 21.35%和 10.44%，分别同比+12.52pct 和+21.26pct，盈利水平大幅提升。1）毛利端，2022 年公司整体毛利率为 49.27%，同比+5.26pct，PECVD、ALD、SACVD 毛利率分别同比+6.78、+1.85pct、-16.17pct，高收入占比 PECVD 毛利率提升是公司整体毛利率提升最大原因，我们判断主要受益产品结构不断优化以及规模效应显现带来的平均成本降低。2）费用端，2022 年公司期间费用率为 37.16%，同比-17pct，其中研发费用率为 22.21%，同比-15.83pct，研发费用率下降是公司期间费用率下降主要原因，主要系规模效应。3）2022 年非经常性损益同比增加 3992.51 万元，其中：2022 年股权投资产生的公允价值变动收益同比增加 1625.82 万元，获得政府补助确认的其他收益同比增加1528.68 万元，对利润端有一定增厚。 ◼ 卡位薄膜沉积核心大赛道，产品线不断丰富打开成长空间 薄膜沉积设备作为前道三大核心设备，价值量占比高达 22%，日本政府 3 月 31 日宣布限制 23 项半导体制造设备的出口,其中 11 项薄膜沉积设备，有望加速薄膜沉积设备进口替代，作为薄膜沉积设备国产领军者，将充分受益进口替代。公司在稳固 PECVD 市场竞争力的同时，SACVD、HDPCVD 、ALD 也持续取得产业化突破，成长空间不断打开。1）PECVD：在国内市占率依然较低，公司已全面覆盖逻辑、DRAM 存储、FLASH 闪存各技术节点通用介质薄膜，并在 14nm 及 10nm 以下制程积极配合客户产业验证，并在 PECVD 基础上开发了应用于先进封装的低温薄膜沉积设-16%24%64%104%144%184%224%264%304%344%384%2022/4/202022/8/182022/12/162023/4/15拓荆科技-U沪深300 请务必阅读正文之后的免责声明部分 公司点评报告 东吴证券研究所 2 / 5 备，随着客户验证顺利推进，有望延续高速增长；2）SACVD：适用于 45-10nm 沟槽填充，先进制程下渗透率存在提升趋势，公司产品体系不断完善，SACVD 产品已在国内集成电路制造产线实现了广泛应用，并取得了现有及新客户订单，有望进入放量阶段；3）HDPCVD： PF-300T Hesper、TS-300S Hesper）设备已取得了不同客户的订单；4）ALD：膜厚精准可控&台阶覆盖率极高，技术优势突出，公司率先实现 PE-ALD 产业化，Thermal-ALD（PF-300T Altair、TS-300 Altair）设备已完成研发，并出货至不同客户端进行验证。 此外，混合键合设备作为晶圆级三维集成应用中最前沿的核心设备之一，公司混合键合系列产品包括晶圆对晶圆键合产品和芯片对晶圆键合表面预处理产品，相关产品并出货至客户端进行验证，进一步打开成长空间。 ◼ 盈利预测与投资评级：考虑到公司 2022 年新签订单大超市场预期，我们调整 2023-2024 年公司营业收入预测分别为 31.67 和 44.82 亿元（原值 24.17 和 32.36 亿元），并预计 2025 年营业收入为 58.66 亿元，当前市值对应动态 PS 为 18、13 和 10 倍，维持“买入”评级。 ◼ 风险提示：晶圆厂资本下滑、国产化率提升不及预期等。 请务必阅读正文之后的免责声明部分 东吴证券研究所 公司点评报告 3 / 5 图1：202