拓荆科技(688072)行稳致远，引领薄膜设备国产替代

识别风险，发现价值 请务必阅读末页的免责声明 1 / 29 公司深度研究|半导体 证券研究报告 [Table_Title] 拓荆科技-U（688072.SH） 行稳致远，引领薄膜设备国产替代 [Table_Summary] 核心观点： ⚫ 本土薄膜设备领军者，高研发投入夯实竞争壁垒。拓荆科技深耕高端半导体专用设备领域十二年，以强大的自主研发能力为发展基石，通过国际化、专业化的研发团队和对标国际巨头的研发投入，持续推出解决了半导体制造关键难题的新工艺和新产品，作为行业后发者成功打破了海外厂商的长期垄断格局。同时，通过海内外市场的开拓，公司产品的品牌影响力不断增强，市场占有率持续提升，业绩高速增长，发展前景广阔。 ⚫ 薄膜沉积设备空间广阔，国产替代势在必行。薄膜沉积设备关乎芯片功能实现，是半导体制造的核心工艺设备之一。在下游应用需求增长和芯片工艺技术进步的背景下，薄膜沉积设备的需求量和技术要求显著提升，全球半导体薄膜沉积设备市场规模稳步增长。市场需求带动了全球产能中心向中国大陆转移，中国大陆正逐渐成为全球半导体产能重心，未来，中国薄膜沉积设备市场将受益于产能转移和国产化替代，市场空间有望持续扩展。 ⚫ 行业龙头厚积薄发，引领薄膜沉积设备国产替代。公司以 PECVD 为核心，向 SACVD 和 ALD 领域不断拓展，产品应用覆盖日趋完善。公司研发实力雄厚，自主研发的核心技术达国际先进水平，建立了丰富的技术储备，持续引领国内先进制程配套设备的研发。同时，公司拥有丰富的产业化经验，积累了众多优质客户资源，是国内薄膜沉积设备行业的领军者，未来有望充分受益于薄膜沉积设备的国产化进程。 ⚫ 盈 利 预 测 与 投 资 建 议 。 预 计 公 司22-24年 营 收 分 别 为12.29/18.96/24.07 亿元，受益于行业高景气度和国产替代进程推进，公司未来业绩有望维持高速增长，参考可比公司估值，给予公司 22 年17 倍 PS，合理价值为 165.26 元/股，首次覆盖，给予“买入”评级。 ⚫ 风险提示。技术创新风险；产品验收周期较长风险；市场竞争风险。 盈利预测： [Table_Finance] 2020A 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入（百万元） 436 758 1,229 1,896 2,407 增长率（%） 73.4 74.0 62.2 54.2 27.0 EBITDA（百万元） -7 55 38 47 128 归母净利润（百万元） -11 68 128 226 331 增长率（%） 40.7 696.1 86.4 76.9 46.5 EPS（元/股） -0.12 0.72 1.01 1.79 2.62 市盈率（x） - - 136.87 77.37 52.80 ROE（%） -1.0 5.7 3.6 5.9 8.0 EV/EBITDA（x） - - 371.75 299.15 107.58 数据来源：公司财务报表，广发证券发展研究中心 [Table_Invest] 公司评级 买入 当前价格 138.17 元 合理价值 165.26 元 报告日期 2022-05-17 [Table_BaseInfo] 基本数据 总股本/流通股本（百万股） 126.48/26.17 总市值/流通市值（百万元） 17475.58/3616.01 一年内最高/最低（元） 138.17/89.71 30 日日均成交量/成交额（百万） 5.36/576.18 近 3 个月/6 个月涨跌幅（%） 49.70/49.70 [Table_PicQuote] 相对市场表现 [Table_Author] 分析师： 许兴军 SAC 执证号：S0260514050002 021-38003661 xuxingjun@gf.com.cn 分析师： 王亮 SAC 执证号：S0260519060001 SFC CE No. BFS478 021-38003658 gfwangliang@gf.com.cn 分析师： 耿正 SAC 执证号：S0260520090002 021-38003660 gengzheng@gf.com.cn 请注意，许兴军,耿正并非香港证券及期货事务监察委员会的注册持牌人，不可在香港从事受监管活动。 [Table_DocReport] 相关研究： -27%-12%4%19%34%50%05/2107/2109/2111/2101/2203/2205/22拓荆科技-U沪深300股票报告网 识别风险，发现价值 请务必阅读末页的免责声明 2 / 29 [Table_PageText] 拓荆科技-U|公司深度研究 目录索引 一、本土薄膜设备领军者，高研发投入夯实竞争壁垒 ........................................................ 5 （一）研发实力强劲，高投入夯实竞争壁垒 .............................................................. 6 （二）下游扩产需求旺盛，收入规模稳步扩张........................................................... 9 二、薄膜沉积设备空间广阔，国产替代势在必行 ............................................................. 10 （一）薄膜沉积设备是前道工艺的核心设备 ............................................................ 10 （二）薄膜沉积设备是前三大前道设备细分市场之一 .............................................. 11 （三）全球薄膜沉积设备市场持续增长，国内市场本土化需求迫切 ........................ 12 三、行业龙头厚积薄发，引领薄膜沉积设备国产替代 ...................................................... 16 （一）布局 PECVD、ALD、SACVD 三大领域，应用覆盖日趋完善....................... 16 （二）技术储备丰富，引领国内先进制程配套设备研发 .......................................... 19 （三）积累众多优质客户资源，加速进行市场推广 ................................................. 20 （四）行业龙头地位突出，引领薄膜沉积设备国产替代 .......................................... 22 四、盈利预测和投资建议 ...........................