系列跟踪报告之三：公司2021年扣非净利润大幅增长，ICP刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速

敬请参阅最后一页特别声明 -1- 证券研究报告 2022 年 4 月 10 日 公司研究 公司 2021 年扣非净利润大幅增长，ICP 刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速 ——中微公司（688012.SH）系列跟踪报告之三 买入（维持） 当前价：116.19 元 作者 分析师：刘凯 执业证书编号：S0930517100002 021-52523849 kailiu@ebscn.com 联系人：杨德珩 yangdh@ebscn.com 市场数据 总股本(亿股) 6.16 总市值(亿元)： 716.01 一年最低/最高(元)： 104.50/234.97 近 3 月换手率： 57.21% 股价相对走势 收益表现 % 1M 3M 1Y 相对 -9.43 10.58 13.62 绝对 -9.33 -2.08 -2.36 资料来源：Wind 相关研报 2021 三季报点评：刻蚀设备收入翻倍，三维立体高速发展——中微公司（688012.SH）系列跟踪报告之二（2021-10-29） 国产替代机遇打造刻蚀设备平台型龙头——中微公司（688012.SH）投资价值分析报告（2021-09-29） 21H1 中报点评：刻蚀设备收入增长超 80%，MOCVD 新设备获批量订单——中微公司（688012.SH）系列跟踪报告之一（2021-08-28） 事件： 2022 年 3 月 31 日，公司发布 2021 年年度报告：公司 2021 年营业收入为 31.08亿元，同比增长 36.72%；实现归母净利润 10.11 亿元，同比增长 105.49%；实现扣非归母净利润 3.24 亿元，同比增长 1291.10%；毛利率为 43.36%，同比增长5.69pcts；净利率为 32.54%，同比增长 10.88pcts。 公司 2021Q4 营业收入为 10.35 亿元，单季环比增长 41.03%，单季同比增长29.91%；实现归母净利润 4.7 亿元，单季环比增长 223.34%，单季同比增长118.14%；实现扣非归母净利润 1.59 亿元，单季环比增长 54.36%，单季同比增长131.82%；毛利率为 44.71%，单季环比增长 1.40pcts，单季同比增长 1.69pcts；净利率为 45.36%，单季环比增长 25.59pcts，单季同比增长 18.34pcts。 点评： 受益于半导体设备市场发展以及产品的竞争优势，公司 2021 年扣非净利润和新增订单大幅增长。 公司 2021 年营业收入为 31.08 亿元，同比增长 36.72%，增长迅速；归母净利润10.11 亿元，同比增长 105.49%；扣非净利润为 3.24 亿元，同比增长 1291.1%，实现大幅增长。 其中非经常性损益为 6.87 亿元，来源于（1）因中芯国际股价变动以及公司减持部分中芯国际股票，公司 2021 年收益约 0.39 亿元，较 2020 年收益的 2.62 亿元减少约 2.23 亿；公司投资的其他非上市公司股权（以公允价值计量且其变动计入当期损益）于 2021 年产生公允价值变动收益约 3.70 亿元，较 2020 年增加约 3.70 亿元。因上述两项因素合计影响，公司 2021 年较 2020 年增加税前利润约 1.47 亿元；（2）公司 2021 年计入非经常性损益的政府补助较 2020 年增加约 0.95 亿元。 分业务看，2021 年刻蚀设备收入同比增长近 56%：受益于半导体设备市场发展及产品竞争优势，公司 2021 年刻蚀设备收入为 20.04 亿元，较 2020 年增长约 55.44%，毛利率达到 44.32%；由于下游市场原因以及本年新签署的 Mini-LED MOCVD 设备规模订单尚未确认收入，2021 年 MOCVD 设备收入为 5.03 亿元，较 2020 年增长约1.53%，但 MOCVD 设备的毛利率达到 33.77%，较 2020 年的 18.65%有大幅度提升。 公司订单情况良好，2021 年新增订单 41.3 亿元，同比增长 90.5%，合同负债为 13.72亿元，同比增长 53.7%：公司 2021 年新签订单金额为 41.3 亿元，较 2020 年增加约 19.6 亿元，同比增加约 90.5%，增长速度较快；公司 2021 年合同负债为 13.72亿元，同比增长 53.7%；公司 2021 年存货为 17.62 亿元，同比增长 6.3%。 要点 敬请参阅最后一页特别声明 -2- 证券研究报告 中微公司（688012.SH） 刻蚀设备：CCP 刻蚀机市占率不断提升，ICP 刻蚀机进入放量期，ALE 设备正在筹划开发中。 CCP 刻蚀机：公司 CCP 刻蚀设备产品保持竞争优势，Primo AD-RIE®、Primo SSC ADRIE™、Primo HD-RIE™等产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位。公司2021 年共生产付运 CCP 刻蚀设备 298 腔，产量同比增长 40%。此外，在先进逻辑电路方面，公司成功取得 5 纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。在存储电路方面，公司的刻蚀设备在 64 层及 128 层 3DNAND 的生产线得到广泛应用。随着 3DNAND 芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单稳步增长。同时，公司积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。公司积极与主流客户合作，定义下一代 CCP 刻蚀机的主要功能及技术指标，正开发更先进的 CCP刻蚀机产品。 ICP 刻蚀机：公司 ICP 刻蚀设备已经逐步趋于成熟。Primo nanova®ICP 刻蚀产品已经在超过 15 家客户的生产线上进行 100 多个 ICP 刻蚀工艺的验证，部分工艺的刻蚀性能和量产指标已经满足客户的要求并投入量产，且持续扩展到更多刻蚀应用的验证。截止到 2021 年 12 月底，Primo Nanova®已经顺利交付超过 180台反应腔，且在客户端完成验证的应用数量也在持续增加。公司 2021 年共生产付运 ICP 刻蚀设备 134 腔，产量同比增长 235%。 此外，公司 ALE（原子层刻蚀）先进关键设备正在筹划开发中。 MOCVD 设备：Mini -LED 用 MOCVD 设备已收到批量订单，第三代半导体及Micro-LED 用 MOCVD 设备稳步推进。公司蓝光照明 Prismo A7®以及深紫外 LED外延片 Prismo HiT3®产品持续服务客户。公司在 2021 年 6 月正式发布了用于高性能 Mini-LED 量产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax®，半年内即已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过 100 腔，并且不断收到更多的订单。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备，启动了应用于制造功率器件、Micro-LED 等生产的 MOCVD 设备的开发，其中开发 GaN 功率器件量产应用的 MOCVD 设备目前已交付国内外领先客户进行生产验证，此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设