半导体材料行业深度之一：光刻胶国产替代正当时

光刻胶国产替代正当时国海证券研究所李永磊(证券分析师)董伯骏(证券分析师)汤永俊(联系人)S0350521080004S0350521080009S0350121080058liyl03@ghzq.com.cndongbj@ghzq.com.cntangyj03@ghzq.com.cn评级：推荐(首次覆盖)证券研究报告2022年08月26日电子化学品Ⅱ1半导体材料行业深度之一：请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明2最近一年走势相关报告《黑猫股份（002068）2022年中报点评：二季度盈利环比回升，新材料领域加速布局（买入）*橡胶*董伯骏，李永磊》——2022-08-26《三友化工（600409.SH）2022年中报点评：Q2业绩环比改善，“三链一群”布局打开成长空间（买入）*化学原料*董伯骏，李永磊》——2022-08-26《新和成（002001）2022年中报点评：高成本下经营稳健，欧洲成本抬升将形成利好（买入）*化学制药*董伯骏，李永磊》——2022-08-25《利安隆2022年中报业绩点评：利安隆(300596) 2022年中报点评：H1业绩同比+47%，看好公司多线业务发展（买入）*化学制品*董伯骏，李永磊》——2022-08-25《桐昆股份（601233）2022年中报点评：涤纶长丝持续扩能，行业景气逐步修复（买入）*炼化及贸易*董伯骏，李永磊》——2022-08-25-0.05750.00870.07480.14100.20720.2734电子化学品Ⅱ沪深300相对沪深300表现2022/08/25表现1M3M12M电子化学品Ⅱ9.1%16.3%-13.3%沪深300-2.3%3.3%-7.7%请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明3重点关注公司及盈利预测重点公司代码股票名称2022/8/25EPSPE投资评级股价20212022E2023E20212022E2023E603650.SH彤程新材32.290.550.781.2058.941.327.0未评级300655.SZ晶瑞电材18.230.590.400.5653.146.132.6未评级300398.SZ飞凯材料21.370.751.001.1629.321.418.4未评级300346.SZ南大光电35.320.340.400.53141.087.366.7未评级603306.SH华懋科技30.740.570.891.2553.634.424.6未评级300236.SZ上海新阳34.730.340.330.82104.5105.742.2未评级002409.SZ雅克科技67.470.721.291.7695.952.338.2未评级002643.SZ万润股份19.150.691.031.2628.418.615.2买入资料来源：Wind，国海证券研究所注：除万润股份外，其余标的盈利取自Wind一致预期，容大感光暂无一致预期，暂未列出。请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明4核心提要➢光刻是光电信息产业核心环节，光刻胶技术壁垒高光刻是利用光学、化学、物理方法，将设计好的电路图转移到晶圆等表面，是光电信息产业链中核心环节。光刻胶是对光敏感的混合液体，主要是由树脂、光引发剂、溶剂、单体等组成，是光刻工艺中最核心耗材，其性能决定着光刻质量。目前，光刻胶生产在工艺技术、测试设备和下游认证均存较高壁垒。➢面板和半导体产业快速发展，国内光刻胶市场前景广阔光刻胶主要应用于半导体、显示面板和PCB等领域，其中显示面板用占比27%，PCB和半导体用占比分别为25%和24%。近年，电子信息产业更新换代速度加快，叠加半导体、显示面板产业东移，国内光刻胶需求快速提升，我国光刻胶市场规模从2015年的100亿元增至2020年的176亿元，年均复合增速达12%；据我们测算，2022-2025年市场规模将达222、250、281和316亿元，成长空间广阔。全球光刻胶市场规模从2010年的56亿美元增至2020年的87亿美元，年均复合增速达5%；据我们测算，2022-2025年将达98、103、109和114亿美元，稳步提升。据不完全统计，目前晶瑞电材等国内实现光刻胶量产的上市公司，2021年光刻胶相关业务营收合计达27.4亿元，约占国内市场规模的14%，全球市场规模的5%，国内市场和全球市场均存在广大的国产替代空间。➢全球光刻胶供给高度集中，国内高端领域逐步突破光刻胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中，日本JSR等五家龙头企业占据全球光刻胶市场87%的份额，同时海外龙头也已实现EUV等高端制程量产。目前，我国光刻胶生产主要集中在PCB光刻胶等中低端产品，其中PCB光刻胶占比达94%；而半导体用g/i线胶自给率约10%，KrF胶自给率不足5%，ArF胶基本依靠进口。在政策推动及半导体产业链配套需求提升背景下，国内优秀龙头公司正积极突破，彤程新材EUV胶已通过02专项验收；上海新阳、徐州博康ArF胶正处客户测试阶段，南大光电ArF胶已获部分客户认证；晶瑞电材等i/g线胶已实现量产。随着国内厂商在高端光刻胶领域的逐步突破，国产替代进程有望加速。➢投资建议：综合考虑国内以光刻胶为代表的电子化学品行业的快速发展，首次覆盖，给予电子化学品行业“推荐”评级。建议关注彤程新材、容大感光、晶瑞电材、飞凯材料、南大光电、华懋科技、上海新阳、雅克科技、万润股份。➢风险提示：下游需求增长不达预期；经济大幅下行；项目投产进度不及预期；安全环保风险；下游认证进程不及预期；重点关注公司业绩不及预期等风险；国产替代实施进度的不确定性；技术进步对产业影响的不确定性。请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明5◼ 目录一．光刻胶：半导体产业核心材料二．光刻胶市场前景广阔三．国产替代进行时四．投资建议五．风险提示请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明61.1 光刻是光电信息产业链中核心环节图表：光刻工艺在芯片制造中实现电路布图资料来源：中芯国际招股书，国海证券研究所➢光刻技术是指利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将图形传递到介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术，是光电信息产业链中的核心环节之一。➢以芯片制造为例，在晶圆清洗、热氧化后，需通过光刻和刻蚀工艺，将设计好的电路图案转移到晶圆表面上，实现电路布图，之后再进行离子注入、退火、扩散、气相沉积、化学机械研磨等流程，最终在晶圆上实现特定的集成电路结构。晶圆清洗、热氧化光刻(涂胶、曝光、显影）刻蚀（干法、湿法）离子注入、退火扩散化学气相沉淀物理气相沉淀化学机械研磨晶圆（加工后）检测多次循环逐层堆积电路图实现特定功能电路布图光掩模制作功能实现请务必阅读报告附注中的风险提示和免责声明71.1 光刻胶是光电工艺核心材料➢光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量。➢作为图像转移“中介”，光刻胶是通过曝光显影蚀刻工艺发挥转移作用，首先将光刻胶涂覆于有功能层的基底上，然后紫外光通过掩膜版进行曝光，在曝光区促使光刻胶发生溶解度变化反应，选择性改变其在显影液中的溶解度，未溶解部分最后在蚀刻过程中起保护作用，从而将掩模版上的图形转移到基底上。图表：光刻工艺核