拓荆科技(688072)国产薄膜沉积设备龙头，有望进入设备放量期

请务必阅读正文后的声明及说明 [Table_Info1] 拓荆科技(688072) 半导体/电子 [Table_Date] 发布时间：2022-05-11 [Table_Invest] 买入 首次 覆盖 [Table_Market] 股票数据 2022/05/11 6 个月目标价（元） 174.8 收盘价（元） 128.00 12 个月股价区间（元） 89.71~128.00 总市值（百万元） 16,189.29 总股本（百万股） 126 A 股（百万股） 126 B 股/H 股（百万股） 0/0 日均成交量（百万股） 4 [Table_PicQuote] 历史收益率曲线 [Table_Trend] 涨跌幅（%） 1M 3M 12M 绝对收益 相对收益 [Table_Report] 相关报告 《机械行业 2021 年策略报告：龙头与景气制造公司的盛宴！》 --20201105 [Table_Author] 证券分析师：刘军 执业证书编号：S0550516090002 021-20361113 liujun@nesc.cn 研究助理：许光坦 执业证书编号：S0550121050011 021-20361113 xugt@nesc.cn [Table_Title] 证券研究报告 / 公司深度报告 国产薄膜沉积设备龙头，有望进入设备放量期 报告摘要： [Table_Summary] 公司专注于薄膜沉积设备，是晶圆制造核心工艺环节稀缺的国产设备供应商，现有 PECVD、ALD、SACVD 三大类产品，已广泛应用于 14nm制程，并已开展 10nm 及以下验证。本篇报告展示了薄膜沉积工艺在晶圆制造中的使用场景以及驱动因素，阐述公司的稀缺性和成长确定性。 薄膜沉积设备是半导体前道设备中的优质赛道，预计到 2025 年全球 340亿美元市场空间，其中 PECVD+ALD 达 150 亿美元。薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料，是晶圆制造的核心环节。具有空间大、增速高、竞争格局好的特点：（1）空间大：占前道设备投资的25%，仅次于刻蚀设备，2020 年国内薄膜沉积设备市场规模约为 300 亿人民币，且在快速增加；（2）增速高：化学薄膜沉积设备 2011-2021 年复合增速为 13.41%，仅次于干法刻蚀设备；（3）竞争格局较好：技术门槛高，国内沉积设备互为补充，竞争对手主要在海外。 稀缺性：在多个环节为国产唯一供应商。拓荆科技凭借国家级重大项目经验+35%的研发费用率+人才团队构筑护城河，产品线较为完备，性能已达国际同类水平。公司与国际巨头直接竞争，受到中芯国际、长江存储等客户的认可，成为唯一进入相关产线的国产设备供应商，PECVD 产品中标机台数量市场份额占比为 16.56%（部分厂商公开中标结果统计），在国产替代大背景下稀缺性值得重视。 成长具有确定性：国内需求持续增长+渗透率提升。公司的 PECVD、ALD、SACVD 三类产品在中国大陆市场空间约 150 亿元人民币（2020年），2021 年公司国内市场份额仅 5.39%，凭借稀缺性优势渗透率有望逐步提升。需求方面，2020-2024 年，大陆内资晶圆厂 12 寸和 8 英寸潜在扩产产能约分别为 120 万片/月及 42 万片/月，且先进工艺、先进制程增加薄膜沉积的材料和环节，需求有望保持强劲增长。 业绩预测及估值：我们预计公司 2022-2024 年归母净利润为 1.25 亿、2.22亿、3.45 亿。对应 PE 为 129/73/47 倍；PS 分别为 13/9/7 倍，首次覆盖，给予“买入”评级。 风险提示：新品验证不及预期；行业竞争加剧 [Table_Finance] 财务摘要（百万元） 2020A 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入 436 758 1,239 1,755 2,382 (+/-)% 73.38% 73.99% 63.51% 41.62% 35.73% 归属母公司净利润 -11 68 125 222 345 (+/-)% 40.68% 696.10% 82.92% 77.50% 55.21% 每股收益（元） 0.00 0.72 0.99 1.76 2.73 市盈率 — 0.00 129.23 72.81 46.91 市净率 — 0.00 4.55 4.32 4.00 净资产收益率(%) -1.02% 5.74% 3.52% 5.94% 8.52% 股息收益率(%) 0.00% 0.00% 0.00% 0.00% 0.00% 总股本 (百万股) 0 95 126 126 126 -10%0%10%20%30%40%50%2022/4/202022/4/272022/5/42022/5/11拓荆科技沪深300股票报告网 请务必阅读正文后的声明及说明 2 / 44 [Table_PageTop] 拓荆科技/公司深度 目 录 1. 国内半导体薄膜沉积设备龙头 ................................................................................. 5 1.1. 专注半导体薄膜沉积设备.............................................................................................................. 5 1.2. 2021 年已实现盈利，产品有望放量.............................................................................................. 6 1.3. 管理团队技术背景出身，员工持股激发活力.............................................................................. 7 2. 薄膜沉积设备是半导体设备中的优质赛道 ............................................................. 9 2.1. 半导体及半导体设备行业飞速发展.............................................................................................. 9 2.2. 薄膜沉积直接影响芯片性能，该类设备系三大前道核心设备之一........................................ 12 2.3. 薄膜沉积设备价值量高、增速快，预计到 2025 年全球 340 亿美元市场空间...................... 16 2.4. 全球来看，行业基本由 AMAT、ASMI、Lam、TEL 等国际巨头垄断...................