新股系列之六：中巨芯，国产高端湿电子化学品行业领先者

华安证券研究所华安研究•拓展投资价值1首席分析师：王强峰 S0010522110002联系人：刘天文 S00101220700312022年12月29日华安证券研究所新股系列之六：中巨芯国产高端湿电子化学品行业领先者证券研究报告华安证券研究所华安研究•拓展投资价值2证券研究报告敬请参阅末页重要声明及评级说明 核心观点湿电子化学品是微电子行业核心材料，超净高纯和复配工艺是核心。湿电子化学品细分种类众多，按照组成成分不同可分为通用型和功能型，通用型一般指超净高纯试剂，其用量较大，核心是超净高纯。功能型一般指通过复配方法制备的各种配方类化学品，其单位价值更高，核心是复配工艺及参数。SEMI将湿电子化学品分为5个等级，G5级技术壁垒最高。湿电子化学品主要用于半导体、面板和光伏行业，其中半导体级技术壁垒最高，盈利能力最强，对应SEMI分类中G4-G5级。G5级湿电子化学品需求旺盛，国内企业细分领域逐渐实现突破，国产替代趋势形成。2021年我国集成电路市场规模超万亿人民币，湿电子化学品在国产化进程加速的背景下市场空间广阔。根据ITTBANK的统计数据，截止至2022年一季度，我国已经投产的12英寸晶圆生产线合计月装机量116.70万片，8英寸晶圆生产线合计月装机量约97.85万片。从在建及规划的产能来看，12英寸晶圆月产能达343.33万片，8英寸晶圆产线月产能仅107.25万片，未来12英寸大晶圆将成为行业主流。结合上述数据。我们测算出12英寸晶圆湿电子化学品消耗量在2026年左右将达到132万吨，是现有产能消耗量的3.9倍。而12英寸晶圆加工使用的湿电子化学品基本为G5级，因此未来G5级高端湿电子化学品的需求将显著放量。从供给端来看，虽然目前我国高端湿电子化学品国产化率较低，但国内企业奋起直追，近年来各企业在相应的细分领域逐渐实现突破，如江化微的硫酸、氨水、盐酸等产品已经突破至G5级，中巨芯的氢氟酸、电子级硫酸、电子级硝酸等也已经达到G5级。未来随着我国企业不断实现技术突破，我国高端湿电子化学品有望真正完成国产替代，实现从技术到产业化的转移。中巨芯：国产高端湿电子化学品细分领域领先者。公司深耕湿电子化学品行业，其中电子级氢氟酸/硫酸/硝酸均达到G5级，电子级盐酸/氨水/氟化铵以及缓冲氧化物刻蚀液可达到G4级，产品种类丰富且品质在行业领先，目前已与 SK 海力士、台积电、中芯等多家知名的半导体企业建立合作关系。同时，公司拟上市募集资金投资建设19.6 万吨超纯电子化学品项目（一期），届时公司产能规模将进一步扩大，技术优势+规模优势助力公司快速抢占高端湿电子化学品行业市场份额。建议关注湿电子化学品及电子特气行业细分领域领先者：中巨芯。风险提示：公司尚未盈利的风险；客户认证风险；公司主营业务整体毛利率尚低于同行业可比公司的风险；原材料价格波动风险；功能电子湿化学品开发与市场拓展风险。nMxOmOqQsMzQyQpPtPmPpQ6MdN6MoMqQmOnPkPpOsQjMtQmM7NpOnRNZnPmOwMtPzR华安证券研究所华安研究•拓展投资价值3证券研究报告敬请参阅末页重要声明及评级说明CONTENTS010204湿电子化学品：微电子行业核心材料，技术壁垒高铸需求：半导体级需求旺盛，国产替代空间大中巨芯：国产高端湿电子化学品细分领域领先者03供给：国内高端产能不足，细分领域逐渐实现突破华安证券研究所华安研究•拓展投资价值4一、微电子行业核心材料，技术壁垒高铸证券研究报告敬请参阅末页重要声明及评级说明湿电子化学品华安证券研究所华安研究•拓展投资价值5证券研究报告敬请参阅末页重要声明及评级说明 1.1 湿电子化学品种类丰富，通用型需求占比大图表2 通用湿电子化学品需求占比大湿电子化学品细分种类众多。按照组成成分不同可以将其分为通用湿电子化学品和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品一般特指超净高纯试剂，包括酸类如硫酸、盐酸，碱类如氨水、氢氧化钾，醇类如甲醇、异丁醇等，功能湿电子化学品一般特指通过复配方法制备的各种配方类化学品，如光刻胶配套试剂中的显影液、蚀刻液、剥离液、清洗液等。通用型使用量大，功能型单位价值高。从使用量来看，通用湿电子化学品远超功能湿电子化学品，主要是由于超净高纯试剂主要是用于清洗过程，使用范围覆盖整个晶圆且需要多次使用，因此用量较大。从单位试剂价值来看，功能湿电子化学品在超净和高纯的基础上要注重试剂的功能性，研发难度更高，因此其单位价值远高于通用湿电子化学品。资料来源：中国电子材料行业协会，前瞻产业研究院，华安证券研究所资料来源：中国电子材料行业协会，前瞻产业研究院，华安证券研究所图表1 湿电子化学品按组分分类细分品种需求量：万吨需求占比：%需求合计：万吨合计占比：%通用湿电子化学品过氧化氢19.7616.70%104.3588.20%氢氟酸18.9316.00%硫酸18.115.30%硝酸16.9214.30%磷酸10.298.70%盐酸5.684.80%氢氧化钾4.53.80%氨水4.383.70%异丙酮3.312.80%醋酸2.251.90%其他0.240.20%功能湿电子化学品显影液（半导体用）3.793.20%13.9611.80%蚀刻液（半导体用）3.192.70%显影液（液晶面板用）2.62.20%剥离液（半导体用）1.891.60%缓冲蚀刻液（BOE）1.421.20%其他1.060.90%华安证券研究所华安研究•拓展投资价值6证券研究报告敬请参阅末页重要声明及评级说明 1.2 超净高纯和复配工艺是湿电子化学品核心超净高纯是通用湿电子化学品核心要素。通用湿电子化学品主要作用为清洗剂被广泛应用于微电子、光电子湿法工艺中，其核心要素为超高洁净度和超低杂质含量，因而它对原料、纯化方法、配方工艺、容器、生产设备、环境控制、测试和运输设备等都有极为严格的要求，控制湿电子化学品中各种杂质的浓度成为考量湿电子化学品性能一项非常重要的指标。复配工艺是功能湿电子化学品核心要素。功能性湿电子化学品一般是建立在通用性湿电子化学品超净高纯的基础上，通过各类不同的复配工艺来达到如蚀刻、显影等不同的效果，因此不同的原料和配方是功能性湿电子化学品的核心要素，其更高的技术壁垒也赋予其更高的单位价值和毛利率。资料来源：江化微招股说明书，华安证券研究所图表3 杂质含量对湿电子化学品性能影响大图表4 湿电子化学制备工艺复杂资料来源：赛瑞研究，新材料在线，华安证券研究所杂质种类杂质的危害Au、Pt、Fe、Ni、Cu硅片中的快扩散物质、也是俘获中心，影响元器件的可靠性和阈值电压，导致低击穿和缺陷碱金属,尤其Na、K 可造成元器件漏电，造成低击穿非金属离子F-、Cl-影响化学气相淀积（CVD）工艺和钝化工艺，导致外延片层错增加P，As，Sb，B，Al 等Ⅱ-Ⅵ组元素属于硅片中的浅能级杂质，有扩散作用，可影响电子和空穴的数量。P、As、Sb是N型杂质，当过量时能使P型硅片反型；B、Al是P型杂质，若过量也会反型固体颗粒造成光刻缺陷，氧化层不平整，影响制版质量，影响等离子刻蚀工艺细菌水和化学试剂中的细菌能造成颗粒型缺陷和污染，细菌分解的有机酸会使水的电阻率降低硅酸根水和化学试剂中的硅酸根会使磷