2021年年报点评：ICP设备加速放量，MOCVD爆发增长

请务必阅读正文后的重要声明部分 1 [Table_StockInfo] 2022 年 03 月 31 日 证 券研究报告•2021 年 年报点评 买入 （ 首次） 当前价： 116.45 元 中微公司（688012） 电 子 目标价： 157.78 元（6 个月） ICP 设备加速放量，MOCVD 爆发增长 投资要点 西 南证券研究发展中心 [Table_Author] 分析师：王谋 执业证号：S125052105001 电话：0755-23617478 邮箱：wangmou@swsc.com.cn [Table_QuotePic] 相 对指数表现 数据来源：Wind 基 础数据 [Table_BaseData] 总股本(亿股) 6.16 流通 A 股(亿股) 3.29 52 周内股价区间(元) 107.32-229.89 总市值(亿元) 717.62 总资产(亿元) 167.33 每股净资产(元) 22.62 相 关研究 [Table_Report] [Table_Summary]  业绩总结：2021 年全年，公司实现营业收入 31.1 亿元，同比增长 36.7%；实现归母净利润 10.1 亿元，同比大幅增长 105.5%。  需求爆发推动营收大幅增长，运营效率提升带动费用率下降。2021年全年：1）营收端上，公司实现收入 31.1 亿元，同比增长 36.7%。2）从利润端上看，公司全年实现归母净利润 10.1 亿元，同比大幅增长 105.5%。其中，公司毛利率为 43.4%，同比上升 5.7pp；净利率为 32.5%，同比上升 10.9pp。3）费用端上看，公司销售费用率为 9.5%，同比下降 0.9pp；管理费用率为 6.5%，同比下降0.2pp；研发费用率为 12.8%，同比下降 1.7pp。  CCP、ICP 加速放量，刻蚀设备市场扩容支撑公司长期业绩增长。2021年公司刻蚀设备收入 20亿元，同比大幅提升 55.4%，具体来看：1）CCP 设备市占率持续提升。2021年公司共生产付运 CCP 刻蚀设备 298腔，产量同比增长 40%，推动公司市占率持续上行。2）ICP 刻蚀设备逐步通过下游验证。2021年公司共生产付运 ICP 刻蚀设备 134腔，产量同比增长 235%。公司 Primo nanova®ICP刻蚀产品在超过 15家客户产线上进行 100多项 ICP 刻蚀工艺验证，目前已通过部分客户验证并投入量产。行业层面，据 Gartner预测，全球刻蚀设备市场规模将由 2020年 123亿美元增长至 2024年 152亿美元，我们预计随公司市占率提升，未来业绩将继续保持高速增长。  MOCVD设备订单爆发，未来成长空间巨大。2021年公司率先发布应用于高性能 Mini LED量产的 MOCVD设备，该设备可同时加工 164片 4英寸或 72片 6英寸外延片，下游客户订单合计已超过 100 腔。同时，公司积极布局用于开发GaN 功率器件量产的 MOCVD设备，目前已交付客户进行生产验证。此外，公司用于 Micro LED 的 MOCVD 设备也积极研发中，产品线得以进一步丰富。  盈利预测与投资建议：预计 2022-2024年公司 EPS 为 1.72元、2.07元、2.48元，未来三年归母净利润复合增速有望达 36.2% 。中微公司为国内刻蚀设备行业领军，刻蚀设备在国内市场份额稳步提升。基于以上考虑，我们给予公司 2022年 92 倍 PE，对应市值 972.3 亿元，对应目标价 157.8 元，首次覆盖给予“买入”评级。  风险提示：下游客户扩产不及预期、新产品研发不及预期、国际贸易摩擦加剧。 [Table_MainProfit] 指标/年度 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入（百万元） 3108.13 4510.90 6033.43 7857.96 增长率 36.72% 45.13% 33.75% 30.24% 归属母公司净利润（百万元） 1011.42 1056.88 1276.55 1529.98 增长率 105.49% 4.49% 20.78% 19.85% 每股收益 EPS（元） 1.64 1.72 2.07 2.48 净资产收益率 ROE 7.25% 7.04% 7.84% 8.59% PE 70.95 67.90 56.22 46.90 PB 5.15 4.78 4.41 4.03 数据来源：Wind，西南证券 -40%-20%0%20%40%60%80%100%21/0421/0621/0821/1021/1222/02沪深300中微公司94573 中 微公司（688012） 2021 年 年报点评 请务必阅读正文后的重要声明部分 2 1 刻蚀设备全球领先，MOCVD 实现国产替代 中微公司于 2004 年在上海成立，前身为中微有限，2019 年成功登陆科创板。公司主要从事高端半导体的研发、生产和销售，核心产品包括：1）用于集成电路领域的等离子体刻蚀设备（CCP、ICP）、深硅刻蚀设备（TSV）；2）用于 LED 芯片领域的 MOCVD 设备。公司以两大业务为核心，逐步开发后道先进封装、MEMS、LED、Mini LED、Micro LED 等泛半导体设备产品，不断拓展外延，逐步成为泛半导体设备平台型企业。 刻蚀设备积累深厚，MOCVD 前景广阔。公司主要专注于等离子刻蚀设备和 MOCVD 设备，产品包括电容性等离子体刻蚀设备（CCP）和电感性等离子体刻蚀设备（ICP），等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用；MOCVD 设备主要应用在 LED 外延片的制造过程中，已在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。凭借 MOCVD 在下游客户中的广泛应用，公司已成为世界排名前列、国内占领先地位的氮化镓基 LED 设备供应商。MOCVD 设备市场有广阔的增长空间，下游应用包括红黄光 LED、紫外光 LED、功率器件和 Mini LED、Micro LED 等。 表 1：公司主要产品及应用领域 主 要 产 品 应 用 领 域 图 示 刻蚀设备 电容性等离子体刻蚀设备 （CCP） 主要应用于集成电路制造中氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等电介质材料的刻蚀 电感性等离子体刻蚀设备 （ICP） 主要应用于在集成电路制造中单晶硅、多晶硅等材料的刻蚀 主要应用于 CMOS 图像传感器、2.5D芯片、3D芯片和芯片切割等通孔及沟槽的刻蚀 MOCVD 设备 MOCVD 设备 LED 外延片及功率器件生产 其他设备 VOC 设备 平板显示生产线等工业用的空气净化 数据来源：Wind，西南证券整理 深耕市场多年，技术革新铸就设备龙头。回顾发展历史，公司成长历程大致可以分为三大阶段：  2004-2011 年：技术起步期。2004 年，尹志尧联合其他核心技术人员在上海创办中微公司，吸引了来自世界各地的半导体专家，成立了研发团队。在此期间，中微公司刻蚀设备获得较大进展，CCP