半导体行业跟踪报告之二十三：产业政策持续加码，国产光刻机任重道远

敬请参阅最后一页特别声明 -1- 证券研究报告 2024 年 11 月 18 日 行业研究 产业政策持续加码，国产光刻机任重道远 ——半导体行业跟踪报告之二十三 电子行业 光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠。光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。目前市场上的光刻机主要分为 g-line、i-line、KrF、ArF、EUV 五代迭代更新，五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点，即限制成品所能获得的最小尺寸。在光刻机的更新迭代中，对光源、光学透镜、反射镜系统提出了越来越高的要求。根据观知海内信咨询，2020 年全球光刻机市场规模为 170.9 亿美元，预计 2024 年将达 315 亿美元。ASML、Nikon 和 Canon三分天下，ASML 垄断高端 EUV 光刻机市场，Nikon、Canon 占据中低端市场。 ASML 龙头地位显著。ASML 在 10 纳米节点以下有 100%的市占率，是全球唯一能够生产 EUV 光刻机（极紫外光刻机）的公司，龙头地位显著。ASML2023 年营收 298 亿美元，同比增长 34%；GAAP 净利润 84.8 亿美元，同比增长 43%。2023 年 ASML 合计销售光刻机 450 台，其中 EUV 销量为 53 台。EUV 作为光刻机中的最先进产品，销售价格持续增长，2023 年平均售价为 1.91 亿美元，同比增长 2%。ASML24Q3 订单及 25 年指引低于预期。 美国产业政策不断加码。美国对华芯片产业管制政策不断加码。2024 年 9 月 5日，美国商务部工业和安全局（BIS）在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则（IFR）。2024 年 9 月 6 日，荷兰政府发布有关浸润式 DUV 光刻设备出口的最新许可证要求，该政策与美国的出口管制要求“对齐”，ASML 将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT：1970i 和 1980i 型号浸润式 DUV 光刻系统的出口许可证。此外美国 BIS 发布的 IFR 升级了对量子计算、先进半导体制造、GAAFET 等相关技术的出口管制。美国众议院设立的中国问题特别委员会向半导体设备制造商——KLA、LAM、应用材料、TEL 以及 ASML 发出信函，要求他们提供对中国的销售细节。信中明确要求这些公司在 2024 年 12 月 1 日前提交包括在华前 30 大客户的收入情况、对国家安全或贸易限制名单上公司的销售记录，以及任何将生产业务转移海外的计划等在内的详细信息。 光刻机国产化任重道远。目前国内的 IC 前道光刻机市场主要被 ASML、Nikon和 Canon 瓜分。中国大陆光刻机进口金额不断增长，2023 年 ASML 在中国大陆销售额为 80.1 亿美元，同比增长 157.6%，ASML 为中国大陆光刻机最大的进口来源。上海微电子是大陆光刻机头部厂商，其自主研发的 600 系列光刻机可批量生产 90nm 工艺的芯片。但是在技术层面，上海微电子的 IC 前道光刻机与国际先进水平差距仍较大，国产光刻机任重道远。 投资建议： 1）光刻机产业链建议关注：晶方科技、茂莱光学、旭光电子、福光股份、美埃科技； 2）国产精密光学产业链建议关注：福晶科技、百傲化学、永新光学、汇成真空、波长光电、腾景科技等。 风险分析：国产光刻机产业链研发进展不及预期；客户导入进度不及预期；国际贸易摩擦加剧。 买入（维持） 作者 分析师：刘凯 执业证书编号：S0930517100002 021-52523849 kailiu@ebscn.com 分析师：黄筱茜 执业证书编号：S0930524050001 021-52523813 huangxiaoqian@ebscn.com 行业与沪深 300 指数对比图 -29%-17%-6%6%17%11/2301/2405/2408/24电子行业沪深300 资料来源：Wind 要点 敬请参阅最后一页特别声明 -2- 证券研究报告 电子行业 目 录 1、 光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠 ................................................................................ 5 1.1 光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠 ..................................................................................................... 5 1.2 全球光刻机市场持续增长，ASML、Nikon、Canon 三分天下 ................................................................ 8 2、 ASML 垄断高端 EUV 光刻机市场.................................................................................... 12 2.1 ASML 龙头地位显著 ............................................................................................................................ 12 2.2 ASML：24Q3 订单及 25 年指引低于预期 ............................................................................................ 13 3、 美国产业政策不断加码，加速国产替代进程 ..................................................................... 16 3.1 芯片管制政策持续加码 ......................................................................................................................... 16 3.2 美国产业管制政策再次升级，涉及更多领域 ........................................................................................ 17 3.3 美国审查多家半导体设备巨头，要求提供中国客户名单 ..................................................................... 18 4、 光刻机国产化突破在即 ............