拓荆科技(688072)国内CVD设备龙头，深度受益国产替代

请务必阅读正文之后的信息披露和重要声明公司研究深度研究报告证券研究报告＃industryId＃电子＃investSuggestion＃审慎增持(＃investSuggestionChange＃首次 ）＃marketData＃市场数据市场数据日期2022-05-18收盘价（元）141.00总股本（百万股）126.48流通股本（百万股）26.17总市值（百万元）17833.51流通市值（百万元）3690.08净资产（百万元）1180.73总资产（百万元）2887.62每股净资产9.34来源：WIND，兴业证券经济与金融研究院整理＃emailAuthor＃分析师：谢恒xieheng@xyzq.com.cnS0190519060001李双亮lishuangliang@xyzq.com.cnS0190520070005＃assAuthor＃主要财务指标＄zycwzb|主要财务指标＄会计年度20212022E2023E2024E营业收入(百万元)758129819982920同比增长74.0%71.3%53.8%46.2%归母净利润(百万元)68118173363同比增长696.1%71.9%46.8%110.2%毛利率44.0%43.4%43.4%45.2%净利率8.8%9.1%8.6%12.4%每股收益(元)0.540.931.372.87每股经营现金流(元)1.09-7.11-3.54-3.97市盈率260.4151.5103.249.1市净率15.05.14.94.5来源：WIND，兴业证券经济与金融研究院整理投资要点＃summary＃国内晶圆厂/存储厂扩产高峰+国产替代加速，国产设备厂商迎来黄金发展期。当前半导体行业结构性景气持续，晶圆制造依然偏紧，台积电等主要晶圆制造厂均给出积极的扩产计划，全球半导体设备市场未来两年有望持续创新高；国内晶圆厂/存储厂更是处于扩产高峰期，为设备厂商提供巨大订单机会，同时中美贸易摩擦背景下国产替代进程加速，下游客户对国产设备的采用意愿和支持力度显著提升，国产设备厂商迎来黄金发展期。薄膜沉积市场巨大，国产替代空间广阔。薄膜沉积设备是晶圆制造三大主设备之一，全球市场规模超 200 亿美元，其中 PECVD 设备占比约 33%，ALD 设备占比约 11%，加上新兴的 SACVD 设备市场，合计规模在 80 亿美元以上，而细分领域均主要由 AMAT、Lam、TEL 等海外厂商主导，国产替代空间巨大。国内 CVD 设备龙头，客户和工艺覆盖度良好。拓荆科技作为国内优质薄膜沉积设备厂商，在集成电路 PECVD 设备是国内唯一产业化量产的厂商，在 28nm 制程已实现较好的工艺覆盖度，14nm 制程部分工序也可覆盖，在中芯国际、华虹集团、长江存储等客户产线得到量产应用；同时公司PEALD 设备也有量产销售，并积极进行市场推广，Thermal ALD 设备也在研发中；此外 SACVD 设备作为新兴 CVD 设备，公司也有相应产品量产销售。＃dyCompany＃拓荆科技-U＃ dyStockcode＃ 688072＃title＃国内 CVD 设备龙头，深度受益国产替代＃createTime1＃2022 年 05 月 19 日股票报告网请务必阅读正文之后的信息披露和重要声明- 2 -深度研究报告＃summary＃表征经营情况的数据持续亮眼，订单和业绩有望迎来快速释放。作为国内半导体设备细分领域领先厂商，拓荆科技持续实现客户拓展和份额提升，近几年收入增速均在 70%以上，从 2018 年的 7064 万元高速增长至 2021年的 7.58 亿元；且公司合同负债持续显著提升，2021 年末金额由前年同期的 1.3 亿元大幅提升至 4.9 亿元，2022Q1 进一步攀升至 7.9 亿元，且存货金额也同样呈快速提升趋势，预示着公司在手订单情况良好，公司业绩有望迎来加速释放期。盈利预测：我们预计，公司 2022-2024 年收入分别为 12.98 亿、19.98 亿、29.20 亿元，归母净利润分别为 1.18 亿、1.73 亿、3.63 亿元，对应 2022/5/18收盘价 PS 分别为 13.7 倍、8.9 倍、6.1 倍，PE 分别为 151.5 倍、103.2 倍、49.1 倍，首次覆盖，给予“审慎增持”评级。风险提示：新产品验证不及预期；中美贸易摩擦加剧；国内客户扩产不及预期。股票报告网请务必阅读正文之后的信息披露和重要声明- 3 -深度研究报告目录1、拓荆科技：国内 CVD 设备龙头，产品逐渐迎来放量.....................................- 5 -1.1、国内 CVD 设备龙头，客户覆盖国内主流晶圆厂......................................- 5 -1.2、广泛实行员工持股，持续大力研发投入.....................................................- 7 -1.3、产品逐渐放量，带动规模持续增长.............................................................- 9 -2、国内晶圆厂资本开支高企，本土 CVD 设备厂商受益国产化加速...............- 11 -2.1、全球主要晶圆厂积极扩产，半导体设备市场持续景气.......................... - 11 -2.2、CVD 设备市场巨大，国产替代空间广阔.................................................- 14 -2.3、CVD 设备进入壁垒高，国产厂商逐渐取得突破.....................................- 18 -3、CVD 设备国产替代先锋，迎来快速增长期.................................................... - 20 -3.1、国内 CVD 设备龙头，先发优势明显........................................................ - 20 -3.2、技术追赶国际龙头，覆盖工艺持续拓展...................................................- 24 -3.3、客户覆盖广泛，国产替代先锋迎来发展良机.......................................... - 25 -4、盈利预测与投资建议..........................................................................................- 27 -5、风险提示..............................................................................................................- 28 -图目录图 1、拓荆科技发展历程.........