江苏微导纳米科技股份有限公司2025年年度报告摘要

江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要公司代码：688147公司简称：微导纳米转债代码：118058转债简称：微导转债江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要第一节 重要提示1、 本年度报告摘要来自年度报告全文，为全面了解本公司的经营成果、财务状况及未来发展规划，投资者应当到 www.sse.com.cn 网站仔细阅读年度报告全文。2、 重大风险提示公司已在2025年年度报告中详细描述可能存在的相关风险，敬请查阅2025年年度报告第三节管理层讨论与分析“四、风险因素”部分内容。3、 本公司董事会及董事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、完整性，不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏，并承担个别和连带的法律责任。4、 公司全体董事出席董事会会议。5、 天职国际会计师事务所（特殊普通合伙）为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。6、 公司上市时未盈利且尚未实现盈利□是 √否7、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案公司拟向全体股东每10股派发现金红利1.44元（含税）。截至第三届董事会第四次会议通知日（2026年4月18日），公司总股本461,158,671股，以扣减回购专用证券账户中股份总数3,705,500股后的股本457,453,171股为基数，以此计算合计拟派发现金红利65,873,256.62元（含税）。如在本公告披露之日起至实施权益分派股权登记日期间，公司总股本发生变动的，拟维持每股分配比例不变，相应调整分配总额，并将另行公告具体调整情况。上述事项已经董事会审议通过，尚需提交股东会审议。母公司存在未弥补亏损□适用 √不适用8、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项□适用 √不适用江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要第二节 公司基本情况1、 公司简介1.1 公司股票简况√适用 □不适用公司股票简况股票种类股票上市交易所及板块股票简称股票代码变更前股票简称人民币普通股（A股）上海证券交易所科创板微导纳米688147不适用1.2 公司存托凭证简况□适用 √不适用1.3 联系人和联系方式董事会秘书证券事务代表姓名龙文朱敏晓联系地址无锡市新吴区长江南路27号无锡市新吴区长江南路27号电话0510-819759860510-81975986传真0510-811636480510-81163648电子信箱security@leadmicro.comsecurity@leadmicro.com2、 报告期公司主要业务简介2.1 主要业务、主要产品或服务情况微导纳米是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售，向下游半导体、泛半导体客户提供尖端薄膜设备、配套产品及服务。在半导体领域内，公司是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积设备（ALD）应用于集成电路制造前道生产线的国产设备厂商，是国内首批成功开发并进入产业链核心厂商量产线的硬掩模化学气相沉积设备（CVD）国产厂商，也是行业内率先为新型存储提供薄膜沉积技术支持的设备厂商之一。目前公司已与国内多家厂商建立了深度合作关系，产品已广泛应用于逻辑、存储、先进封装、化合物半导体、新型显示（硅基 OLED 等）等诸多细分应用领域，多项设备关键指标达到国际先进水平，能够满足国内客户当前技术的需求以及未来技术更迭的需要。在光伏领域内，公司作为率先将 ALD 技术规模化应用于国内光伏电池生产的企业，已成为行业内提供高效电池技术与设备的领军者之一，与国内头部光伏厂商形成了长期合作伙伴关系。同时，公司跟随下游厂商的量产节奏，持续优化 XBC、HJT、钙钛矿、钙钛矿叠层电池等新一代高效电池技术，引领光伏行业技术迭代。根据公开的市场数据统计，公司 ALD 产品已连续多年在营收规模、订单总量和市场占有率方面位居国内同类企业第一。作为国家高新技术企业，公司先后荣获工信部“专精特新”小巨人企业、国家知识产权优势企江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要业、苏南国家自主创新示范区独角兽企业、江苏省小巨人企业（制造类）等称号。公司拥有七个国家级、省级研发平台，包括国家博士后科研工作站、江苏省原子层沉积技术工程技术研究中心、江苏省原子层沉积技术工程研究中心、江苏省省级企业技术中心、江苏省外国专家工作室等，并承担了多项国家、省级重大科技专项。公司以“创新驱动，引领未来，为客户创造价值”为使命，不断引领行业技术创新，成立至今已开发多款高端薄膜沉积设备并成功实现产业化。公司 iTomic HiK 系列半导体 ALD 设备和 KF系列光伏 ALD 设备入选江苏省首台（套）重大装备产品目录，iTronix 系列半导体 CVD 设备入选江苏省“两新”技术产品，多款半导体设备荣获“中国半导体创新产品和技术奖”及“集成电路产业技术创新奖”。公司生产研发的主要设备，具体如下：（1）公司半导体领域主要产品产品系列产品图示简介产业化阶段iTomic HiK 系列原子层沉积系统半导体领域 ALD 设备，适用于高介电常数（High-k）栅氧层、N/P-MOSDipole、MIM 电容器层等薄膜工艺需求产业化应用iTomic MeT 系列原子层沉积系统半导体领域 ALD 设备，适用于栅极金属、MIM 金属电极、扩散阻挡层等关键工艺产业化应用iTomic MW 系列批量式原子层沉积系统半导体领域 ALD 设备，每个工艺腔可一次处理 25 片 12 英寸晶圆，适用于成膜速率低，厚度厚，以及产能要求高的关键工艺及应用产业化应用iTomic Lite 系列轻型原子层沉积系统半导体领域 ALD 设备，可满足 6、8英寸晶圆制造量产工艺需求，同时也可满足客户高端研发和新工艺试量产需求产业化应用iTomic PE 系列等离子体增强原子层沉积系统半导体领域 PEALD 设备，可为逻辑芯片、存储芯片、先进封装等提供掩膜层、介质层、图案化等关键工艺解决方案产业化应用江苏微导纳米科技股份有限公司2025 年年度报告摘要产品系列产品图示简介产业化阶段iTomic SPX 系列空间型原子层沉积系统半导体领域空间型 ALD 设备，可单批次处理多片晶圆，前驱体空间独立，颗粒表现优越，节省化学源消耗，提升产能产业化验证iTronix MTP 系列等离子体增强化学气相沉积系统半导体领域 PECVD 设备，可在多种温度，尤其是高温工艺条件下沉积的具有高硬度和高刻蚀比等特性的含碳介电层薄膜，为逻辑和存储等领域芯片制造提供特殊工艺及解决方案产业化应用iTronix PE 系列等离子体增强化学气相沉积系统半导体领域 PECVD 设备，可沉积SiO2、SiN、SiON、SiCN、a-Si 等不同种类薄膜，涵盖的工艺温度范围200~700℃产业化验证iTronix LP 系列低压化学气相沉积系统半 导 体 领 域 LPCVD 设 备 可 满 足SiGe、p-Si、doped a-Si、monocrystal-Si 等薄膜沉积工艺的开发和量产需求产业化验证