首次覆盖：薄膜沉积设备龙头公司扬帆起航

[Table_yemei1] 观点聚焦 Investment Focus [Table_yejiao1] 本研究报告由海通国际分销，海通国际是由海通国际研究有限公司，海通证券印度私人有限公司，海通国际株式会社和海通国际证券集团其他各成员单位的证券研究团队所组成的全球品牌，海通国际证券集团各成员分别在其许可的司法管辖区内从事证券活动。关于海通国际的分析师证明，重要披露声明和免责声明，请参阅附录。(Please see appendix for English translation of the disclaimer) 研究报告 Research Report 5 May 2022 拓荆科技 Piotech Inc. (688072 CH) 首次覆盖: 薄膜沉积设备龙头公司扬帆起航 Domestic Leader in Deposition Equipment: Initiation [Table_Info] 首次覆盖优于大市 Initiate with OUTPERFORM 评级 优于大市 OUTPERFORM 现价 Rmb110.85 目标价 Rmb100.19 市值 Rmb14.02bn / US$2.13bn 日交易额 (3 个月均值) US$114.52mn 发行股票数目 26.17mn 自由流通股 (%) - 1 年股价最高最低值 Rmb119.28-Rmb89.71 注：现价 Rmb110.85 为 2022 年 5 月 5 日收盘价 资料来源： Factset 1mth 3mth 12mth 绝对值 绝对值（美元） 相对 MSCI China [Table_Profit] (Rmb mn) Dec-20A Dec-21E Dec-22E Dec-23E 营业收入 436 758 975 1,176 (+/-) 73% 74% 29% 21% 净利润 -11 68 91 148 (+/-) n.m. 696% 33% 62% 全面摊薄 EPS (Rmb) -0.09 0.54 0.72 1.17 毛利率 34.1% 44.0% 45.2% 46.2% 净资产收益率 -1.0% 5.7% 2.6% 4.0% 市盈率 n.m. 205 154 95 资料来源：公司信息, HTI (Please see APPENDIX 1 for English summary) 国内薄膜沉积设备领先供应商。拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备、SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。 海外技术专家及高端技术人才牵头，专注于薄膜沉积设备的国产化。截止 2021 年 9 月 30 日，公司科研人员 189 人，占员工总数的44.06%，其中海外技术专家及高端技术人才十余人。公司的 PECVD设备、ALD 设备、SACVD 设备三大产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已开展 10nm 及以下制程产品验证测试。 营收增长迅速，毛利率提升明显。公司 2018 年-2020 年营业收入7064.4 万元、25125.15 万元、43562.77 万元，2019 年/2020 年同比增 255.56%、73.38%；2021 年 1-9 月收入 37389.57 万元。按产品分，2018-2020公司PECVD设备收入分别为 5170.28万元、24772.45万元、41824.53 万元，在主营业务收入中占比最大。2018 年-2020年公司整体毛利率分别为 33.00%、31.99%、34.12%，2021 年 1-9月的毛利率则高达 45.55%，提升较为明显。 薄膜沉积设备市场空间大，ALD 设备市场规模预期将快速增长。薄膜沉积设备中，PECVD设备是占比最高的设备类型，占整体薄膜沉积设备市场的 33%；ALD 设备占据薄膜沉积设备市场的 11%。经测算，2020 年 PECVD 设备、ALD 设备的全球市场规模分别为 56.76亿美元、18.92 亿美元。由于半导体先进制程产线数量增加，根据拓荆科技招股说明书援引 Acumen research and Consulting 预测 ALD设备的市场规模将快速增长，到 2026E 全球 ALD 设备市场规模将达到 32 亿美元。 盈利预测与投资建议。我们预测拓荆科技 2022E-2024E 收入 9.75 亿元、11.76 亿元、13.30 亿元，同比增 28.61%、20.69%、13.04%；归母净利润分别为 0.91 亿元、1.48 亿元、1.85 亿元，同比增33.36%、62.08%、25.25%。采用 PS 估值方法，结合可比公司估值PS（2022E）均值为 11.91 倍，给予公司 PS（2022E）13x，对应合理价值 100.19 元/股，首次覆盖“优于大市”评级 风险提示。1)无法引进技术人才；2)客户验收时间延长；3)竞争加剧。 [Table_Author] Nathan Zheng Yang Zhou hongda.zheng@htisec.com y.zhou@htisec.com 85100115130145Price ReturnMSCI ChinaApr-22Volume 5 May 2022 2 [Table_header1] 拓荆科技 (688072 CH) 首次覆盖优于大市 拓荆科技是由拥有专业技术知识、丰富行业经验的管理层、专家组建成立的半导体设备供应商，成立至今一直专注于半导体薄膜沉积设备业务，主要产品包括 PECVD设备、ALD 设备、SACVD 设备三个系列。公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD 设备、SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。 我们认为公司在薄膜沉积设备领域的技术能力强，目前 PECVD 设备为贡献收入的主力设备机型，ALD 设备、SACVD 设备新产品也在不断推出，伴随国内芯片本地化生产的需求不断增加，下游晶圆厂未来几年仍将持续扩产，拓荆科技作为国内优秀的薄膜沉积设备龙头公司将持续成长。 1. 国内领先的半导体薄膜沉积设备厂商 拓荆科技股份有限公司（简称“拓荆科技”）主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备、SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。 1.1 股东背景：公司管理层及员工持股平台合计持有公司 15.19%股权 拓荆科技成立于 2010 年 4 月 28 日，法定代表人吕光泉，注册资金 1000 万元，其中中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、孙丽杰分别出资 600 万元、