电子行业深度报告:AI算力驱动,硅电容乘势而起
证券研究报告·行业深度报告·电子 东吴证券研究所 1 / 17 请务必阅读正文之后的免责声明部分 电子行业深度报告 AI 算力驱动,硅电容乘势而起 2026 年 08 月 01 日 证券分析师 陈海进 执业证书:S0600525020001 chenhj@dwzq.com.cn 证券分析师 解承堯 执业证书:S0600526070002 xiechy@dwzq.com.cn 研究助理 闫春旭 执业证书:S0600126070030 yanchx@dwzq.com.cn 行业走势 相关研究 《功率密度跃升驱动 800V DC 架构升级,宽禁带功率器件打开成长空间》 2026-07-22 《端侧 AI 周跟踪:7 款手机端侧 AI服务完成备案,端侧智能化驱动消费电子价值重估》 2026-07-19 增持(维持) [Table_Tag] [Table_Summary] 投资要点 ◼ 硅电容:以半导体工艺重塑被动元件性能边界。硅电容以单晶硅为衬底,通过薄膜沉积、光刻与深硅刻蚀等半导体工艺制造,在高频、高温、超薄及高可靠性场景中具备显著优势。产业内主要有平面(Planar)、深沟槽(DTC)和过孔集成(VIC)三种硅电容路线。平面结构工艺最成熟,基于电极板形成电容,结构简单,容值密度有限,厚度常规,用于传统或低端场景。DTC 工艺成熟,通过刻蚀高纵横比深沟槽并在侧壁沉积介质及电极材料,大幅增加有效面积,容值密度高,厚度不足 40µm,用于 AI 服务器、高速光模块等高性能主流应用。VIC 产业化处于导入加速期,容值密度更高,具有进一步减薄和集成潜力,更适用于 GPU 近芯片供电及高端先进封装。MLCC 与硅电容是互补分工而非替代关系:MLCC 以低成本、大容量主导板级通用滤波稳压;硅电容以超低 ESL、超薄、高频稳定等优势,专攻封装内部近 die 去耦等高端场景。尤其在AI 服务器中,板级 MLCC 受寄生电感限制,硅电容紧贴芯片保障封装级电源完整性,两者层级协同,分别满足通用与极致需求。 ◼ AI 产业趋势驱动,硅电容有望迎来广阔增长空间。1)AI 芯片/HBM 封装:硅电容以低于 10pH 的 ESL 和不足 40µm 的厚度优势,有望凭借其在封装内部近 die 去耦的核心价值,逐渐成为 GPU、ASIC 与 HBM 封装中的标准元件。产业信号已高度密集:三星电机已与一家全球大型企业签署价值约 1.5 万亿韩元(约人民币 68 亿元)的硅电容长期供应合同,正式开启该业务规模化商用阶段;英伟达 Rubin 架构将内嵌硅电容列为标配。2)高速光模块:800G/1.6T 光模块迭代对信号完整性与高频滤波提出更高要求,硅电容凭借极低高频插入损耗与 200°C 以上耐温能力,在光模块电源滤波与信号耦合中发挥关键作用。根据 QYResearch数据,2024 年全球硅电容市场规模约 10.7 亿美元,2031 年全球硅电容市场规模将达到 18.2 亿美元,2024-2031 年 CAGR 约为 8%。 ◼ 硅电容尚处产业化初期,市场竞争格局集中。硅电容产业兼具半导体与被动元件双重技术门槛,跨界融合使研发及量产难度极高,加之产品直接影响芯片可靠性,客户验证周期漫长,新玩家短期难以大规模切入。全球硅电容市场竞争格局较为集中,海外主要厂商包括村田、罗姆半导体、三星电机等。国内方面,火炬电子、鸿远电子、风华高科、宏达电子等上市公司多处于研制或培育阶段;而苏纳光电、朗矽科技、凌存科技等非上市企业已获头部客户订单或实现大规模量产交付,产品进入 AI芯片与光模块供应链。 ◼ 投资建议:AI 算力扩张与光模块向 800G/1.6T 迭代正驱动硅电容产业化提速,建议关注硅电容研发生产厂商火炬电子、鸿远电子、风华高科、宏达电子,先进封装配套封测厂颀中科技等。 ◼ 风险提示:产业化进程不及预期风险,下游市场需求不及预期风险,客户验证与导入不及预期风险,行业竞争加剧风险。 0%15%30%45%60%75%90%105%120%135%150%2025/8/12025/11/302026/3/312026/7/30电子沪深300 请务必阅读正文之后的免责声明部分 行业深度报告 东吴证券研究所 2 / 17 内容目录 1. 硅电容:以半导体工艺重塑被动元件性能边界 .............................................................................. 4 1.1. 硅电容尚处产业化初期,市场竞争格局集中......................................................................... 4 1.2. 硅电容与 MLCC 有何不同? ................................................................................................... 7 2. AI 产业趋势驱动,硅电容有望迎来广阔增长空间 .......................................................................... 9 2.1. AI 芯片/HBM 封装 ..................................................................................................................... 9 3. 硅电容尚处产业化初期,市场竞争格局集中 ................................................................................ 13 4. 投资建议 ............................................................................................................................................ 16 5. 风险提示 ............................................................................................................................................ 16 请务必阅读正文之后的免责声明部分 行业深度报告 东吴证券研究所 3 / 17 图表目录 图 1: 硅电容示意图............................................................................................................................... 4 图 2: 2D 硅电容简图 ....
[东吴证券]:电子行业深度报告:AI算力驱动,硅电容乘势而起,点击即可下载。报告格式为PDF,大小1.16M,页数17页,欢迎下载。



